膜厚仪
  • 发布人:成果转化处
  • 发布时间:2018.04.09

产品/技术名称

 

膜厚仪


简介

 

该膜厚仪采用光谱干涉原理,完成多种薄膜厚度测量,测量重复性达到亚纳米。可广泛用于半导体、镀膜、卷式涂层、太阳光伏、LED等领域薄膜厚度测量。


技术参数

 

测量范围:15nm—100μm

测量重复性(RMS):0.086nm;

绝对测量精度(与椭偏仪对比):0.25nm;

测量层数:大于3层;

测量时间:4ms—100ms


成熟程度

 

原理样机



样机实物

 


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