产品/技术名称
膜厚仪
简介
该膜厚仪采用光谱干涉原理,完成多种薄膜厚度测量,测量重复性达到亚纳米。可广泛用于半导体、镀膜、卷式涂层、太阳光伏、LED等领域薄膜厚度测量。
技术参数
测量范围:15nm—100μm
测量重复性(RMS):0.086nm;
绝对测量精度(与椭偏仪对比):0.25nm;
测量层数:大于3层;
测量时间:4ms—100ms。
成熟程度
原理样机
样机实物