系列产品名称

产品简介

技术参数

紫外单面光刻机

• 紫外单面光刻机具备单面曝光，对准等功能，目前已形成多种型号系列光刻产品。

• 分辨力1μm，套刻精度0.5μm，胶厚600μm，可添加纳米模块。

紫外双面光刻机  

• 外双面光刻机利用单个曝光头，通过正面、背面两面对准，实现双面加工。目前已形成多种型号系列光刻产品。

• 分辨力1微米，双面套刻精度0.8μm，胶厚600μm。

中紫外光刻机

• 中紫外光刻机采用312nm波长中紫外光源，在光敏玻璃上直接实现微纳结构加工，将改变现有传统光学加工方式，具有广阔的应用前景，目前已完成产品试制，并实现销售。

• 分辨力0.5μm-1μm，套刻精度0.6μm-1μm，曝光面积8英寸-16英寸。

纳米压印紫外

光刻机

• 纳米压印紫外光刻机，将纳米压印技术与紫外光刻技术结合，实现纳米到微米跨尺度加工，具有低成本、高精度等特点。

• 分辨力50nm，对准精度10nm。

紫外投影光刻机

• 紫外投影光刻机，采用步进投影方式，实现微纳图形曝光。

• 最高分辨力1μm，基片尺寸8英寸，工件台定位精度0.65μm，套刻精度0.5-1μm，最大曝光面积50mm×50mm。

紫外无掩模投影光刻机

• 紫外无掩模投影光刻机，采用DMD数字掩模，通过投影方式实现任意微纳图形加工，具有高精度、高灵活性等优点。目前已成功研发两种型号设备。

• 分辨力1μm，套刻精度1μm。