一种去除以含铬材料为粘着层的银反射薄膜的退膜工艺
- 发布时间:2018.04.09
专利名称 |
一种去除以含铬材料为粘着层的银反射薄膜的退膜工艺 |
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申请号 |
201510202701.8 |
专利类型 |
发明专利 |
申请日 |
2015-04-27 |
授权日 |
2017-02-22 |
公开号 |
104882494B |
分类号 |
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发明人 |
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专利权人 |
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摘要 |
本发明公开了一种去除以含铬材料为粘着层的银反射薄膜的退膜工艺,其包含使用去离子水和无水酒精清洁薄膜表面、试剂1去银、试剂2去铬和试剂3缓冲研磨、水洗干燥及无水酒精清洁步骤。试剂1由36%~38%浓度的盐酸、五水合硫酸铜及去离子水组成,试剂2由70%浓度的硝酸、硝酸铈氨及去离子水组成,试剂3由碳酸氢钠和去离子水组成。用量为:1L试剂1中盐酸和去离子水的体积比例为1:1~4,所需五水合硫酸铜10~40g/L;1L试剂2所需硝酸50~100ml、硝酸铈氨100~200g;试剂3需要过量碳酸氢钠与去离子水形成悬浊液。退膜工艺中不含氢氟酸HF和诸如氢氧化钠NaOH、氢氧化钾KOH之类强碱等物质。 |