专利名称 

一种复合光栅纳米光刻自动对准系统

申请号 

201510100540.1

专利类型 

发明专利

申请日 

2015-03-06

授权日 

2017-01-11

公开号

104614955B

分类号

 G03F9/00(2006.01)I

发明人 

  司新春、唐燕、胡松、魏嘉、刘俊伯、邓钦元、周毅

专利权人 

中国科学院光电技术研究所 

摘要 

    本发明公开了一种复合光栅纳米光刻自动对准系统，包括光路部分、图像处理部分和电路控制部分；光路部分包括激光光源、准直成像透镜、掩模板、硅片、掩模复合光栅、硅片复合光栅、分光镜、透镜和CCD图像探测器；激光通过准直成像透镜系统形成平行光，透过两个周期类似、以一定间隙重叠且平行的硅片与掩模上的光栅发生多次衍射，来自两个光栅的同级衍射光发生干涉叠加，形成周期被放大的莫尔条纹，最后成像于CCD图像传感器上。条纹图像可以分为两部分：粗对准部分和精对准部分，对这两部分进行处理进而计算出掩模和硅片之间的相对位移，先后进行粗、精对准，通过电路控制硅片移动，使硅片与掩模完全对准。本发明可以在同一个光栅标记上进行粗、精度对准，易装调，精度高。