一种用于接近式纳米光刻二维光栅自动对准系统
- 发布时间:2018.04.09
专利名称 |
一种用于接近式纳米光刻二维光栅自动对准系统 |
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申请号 |
201510001996.2 |
专利类型 |
发明专利 |
申请日 |
2015-01-04 |
授权日 |
2017-02-22 |
公开号 |
104536273B |
分类号 |
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发明人 |
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专利权人 |
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摘要 |
本发明公开了一种用于接近式纳米光刻二维光栅自动对准系统,包括光路部分、图像处理部分和电路控制部分;光路部分包括激光光源、照明系统、掩模板、硅片、掩模二维光栅、硅片二维光栅、分光镜、透镜和CCD图像探测器;激光通过准直成像透镜系统形成平行光,透过两个周期类似、以一定间隙重叠且平行的硅片与掩模上的光栅并发生多次衍射,来自两个光栅的同级衍射光发生干涉叠加,形成周期被放大的莫尔条纹,最后成像于CCD图像传感器上。对图像处理后可以同时提取横纵两轴的两组莫尔干涉条纹的相位差,进而计算出掩模和硅片之间的相对位移,再通过电路控制硅片移动,使硅片与掩模完全对准。本发明可同时进行两个方向的精度对准,易装调,精度高。 |
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