一种用于接近式纳米光刻二维光栅自动对准系统
  • 发布人:成果转化处
  • 发布时间:2018.04.09

专利名称 

一种用于接近式纳米光刻二维光栅自动对准系统

申请号 

201510001996.2

专利类型 

发明专利

申请日 

2015-01-04

授权日 

2017-02-22

公开号

104536273B

分类号

 G03F9/00(2006.01)I

发明人 

 司新春唐燕胡松刘俊伯周毅邓钦元陈昌龙邸成良程依光

专利权人 

中国科学院光电技术研究所 

摘要 

    本发明公开了一种用于接近式纳米光刻二维光栅自动对准系统,包括光路部分、图像处理部分和电路控制部分;光路部分包括激光光源、照明系统、掩模板、硅片、掩模二维光栅、硅片二维光栅、分光镜、透镜和CCD图像探测器;激光通过准直成像透镜系统形成平行光,透过两个周期类似、以一定间隙重叠且平行的硅片与掩模上的光栅并发生多次衍射,来自两个光栅的同级衍射光发生干涉叠加,形成周期被放大的莫尔条纹,最后成像于CCD图像传感器上。对图像处理后可以同时提取横纵两轴的两组莫尔干涉条纹的相位差,进而计算出掩模和硅片之间的相对位移,再通过电路控制硅片移动,使硅片与掩模完全对准。本发明可同时进行两个方向的精度对准,易装调,精度高。

网站E-mail:cgc@ioe.ac.cn 电话:028-85100055 版权所有:中国科学院光电技术研究所 科技成果转化与产业合作处 备案序号: