一种基于模板诱导龟裂效应的纳流道制备方法
  • 发布人:成果转化处
  • 发布时间:2018.04.09


专利名称

 

一种基于模板诱导龟裂效应的纳流道制备方法


申请号 


201410608038.7


专利类型 


发明专利


申请日

 

2014-10-31


授权日 

2016-05-18


公开号


104326433B


分类号

B81B1/00(2006.01)I B01L3/00(2006.01)I


发明人

 

邓启凌、张满、史立芳、秦燕云、曹阿秀、庞辉


专利权 


中国科学院光电技术研究所 

摘要 


本发明涉及一种基于模板诱导龟裂效应的纳流道制备方法,属于微纳米结构加工和生物化学领域,按照目标纳流道的分布,设计加工具有纳米微尖的图案化结构作为诱导模板;选择抛光的基片作为纳流道的基底层,在其表面涂覆一层高体积收缩率的高分子聚合物材料;将诱导模板对准压印在聚合物材料膜层上,并对聚合物材料进行固化;由于聚合物材料在固化交联时的体积收缩,微尖纳米结构作为龟裂的外部诱导点,当材料满足体积收缩力大于内部应力时,诱导聚合物材料在固化过程中发生龟裂效应,沿着微尖结构图案形成龟裂通道,实现纳流道的制备。本发明基于纳米压印过程和模板诱导龟裂效应,操作简单、成本低廉、结构可控,在纳米科学和技术研究领域具有广阔的应用前景。


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