专利名称

一种将矢量图形转化成位图并进行自适应分割的方法

申请号

201410458372.9 

专利类型

发明专利

申请日

2014-09-10

授权日

2017-06-27

公开号

104240245B

分类号

G06F17/50(2006.01)I

G06T7/10(2017.01)I

发明人

 李艳丽、严伟、冯金花

专利权人

中国科学院光电技术研究所

摘要

    本发明提出了一种将矢量图形转化成位图并进行自适应分割的方法，该方法针对数字无掩模光刻技术中数字掩模只能是位图的特点，通过解析矢量图的坐标和属性，逐层划分，图元合并和位图补偿的方式有效准确的将一副矢量图转化位图并分割成适用于数字无掩模光刻的多幅子位图。该方法避免了矢量图形直解映射到位图造成精度的损失，解决了数字无掩模光刻技术中生成数字掩模的局限性。